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磁控濺射鍍膜以其高速、低溫、低損傷等特點(diǎn)，可被用于濺射半導(dǎo)體、金屬、絕緣體等幾乎任何材料。因其具有制備簡(jiǎn)單、附著力強(qiáng)、鍍膜面積大及易于控制等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)、信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)及其他領(lǐng)域，如激光存儲(chǔ)器、集成電路、信息存儲(chǔ)、薄膜電阻、電子控制器件、磁記錄、玻璃鍍膜、表面工程及高檔裝飾等[1,2]。磁控濺射

近年來(lái)，隨著電鍍和化學(xué)鍍等傳統(tǒng)表面改性技術(shù)的局限性日益突出，以物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）為主要工藝方法的真空鍍膜技術(shù)取得了突飛猛進(jìn)的進(jìn)展，其中，PVD 制備過(guò)程所需要的濺射靶材[1-3] 市場(chǎng)需求量日趨旺盛。據(jù)統(tǒng)計(jì)，全球范圍內(nèi)靶材的市場(chǎng)需求量每年以20% 的速度增長(zhǎng)，中國(guó)作為全球制造業(yè)大國(guó)，其靶材的

鈦合金比重?。s4.5）、熔點(diǎn)高（1600℃左右）、塑性好，具有比強(qiáng)度高、耐蝕性強(qiáng)，能在高溫下長(zhǎng)期工作（目前熱強(qiáng)鈦合金已用于500℃）等優(yōu)點(diǎn)，因而已經(jīng)越來(lái)越多地用作飛機(jī)和飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的重要承載部件，除了鈦合金材料的鍛件外，還有鑄件、板材（如飛機(jī)蒙皮）、緊固件等等?，F(xiàn)代國(guó)外飛機(jī)上采用鈦合金的重量比已經(jīng)達(dá)到30%左右，

鈦合金材料的應(yīng)用取決于其性能，由于鈦合金這些優(yōu)秀的性能，鈦管、鈦棒等鈦合金材料越來(lái)越廣泛地運(yùn)用于航天航空、化工、醫(yī)療器械以及海洋工程等領(lǐng)域。1、鈦合金材料在航空工業(yè)中的應(yīng)用鈦的應(yīng)用起始于 20 世紀(jì) 50 年代初，最早應(yīng)用于航空工業(yè)鈦合金具有較高的比強(qiáng)度，鈦合金材料的強(qiáng)度和鋼相近但密度遠(yuǎn)小于鋼；并

一、靶材介紹:濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。濺射靶材工作原理示意圖如下:二、工藝流程

傳統(tǒng)上采用鑄造法和粉末冶金法生產(chǎn)鈦鋁合金靶材。鑄造法制作鈦鋁合金靶材無(wú)法避免疏松和縮孔，大尺寸鈦鋁鑄管和鑄錠不能保證制成旋轉(zhuǎn)管靶時(shí)達(dá)到密封和防水效果，并且隨著管壁的刻蝕，壁厚變薄，疏松和縮孔只要有一個(gè)孔連通，密封性會(huì)變得更加糟糕，輕者滲漏，靶管起輝放電，或大量雜氣參與反應(yīng)導(dǎo)致掉膜或者起彩顏色不對(duì)。嚴(yán)